Shiseido Waso Koshirice Traitement calmant pour l'acné
20 mL
32,00 $
Dans le but de répondre aux principales préoccupations des Gen-Z, Shiseido a créé un traitement des taches qui est doux, non desséchant et sans alcool pour aider à calmer l'apparence des taches et donner aux gens la tranquillité d'esprit pour apprécier leur peau. Ce traitement contient un équilibre de riz Koshihikari antioxydant et d'acide salicylique pour réduire et aider à prévenir l'apparition d'imperfections tout en ayant un fini transparent, ce qui rend l'utilisation quotidienne facile et sans souci.
Conseils d'utilisation : Après avoir remarqué qu'une zone a besoin d'être apaisée, prends une goutte de la taille d'un grain de riz sur le bout du doigt et applique directement. Après cette étape simple, poursuis avec la crème hydratante de jour habituelle et la protection solaire. Le traitement peut être utilisé par-dessus le maquillage pour faciliter l'application régulière. Pour de meilleurs résultats, applique les zones concernées 2 à 3 fois par jour.
Acrylates, sels d'aluminium, muscs/graisses/huiles d'animaux, benzophénones et composés apparentés, butoxyéthanol, hydroxyanisole butylé (BHA), hydroxytoluène butylé (BHT) sous 0.1%, Noir de carbone ou Noir 2, Goudron de houille, Éthanolamines, Formaldéhyde et agents de libération du formaldéhyde, Hydroquinone, Plomb et acétate de plomb, Mercure + composés du mercure (Thimerisol), Méthoxyéthanol, Cellosolve de méthyle, Methylchloroisothiazolinone et Methylisothiazolinone, Huile minérale, Nanomatériaux (restrictions pour certains nanomatériaux uniquement), Oxybenzone, Parabènes, Pétrolatum et Paraffine (qualité USP uniquement), Phénoxyéthanol inférieur à 1%, Phtalates, Microbilles de plastique, Polyacrylamide & Acrylamide, Résorcinol, Palmitate de rétinyle, Styrène, Sulfates, Talc (pas de détection d'amiante), Toluène, Triclosan et Triclocarban, Parfum synthétique non divulgué (inférieur à 1% et formulé sans Acétaldéhyde, Acétone, Acétonitrile, Chlorure de benzalkonium, BPA, EDTA, Chlorure de méthylène, PTFE, PFOA), 1,4-Dioxane (les ingrédients doivent respecter les seuils d'impureté), Octinoxate, composés PFAS, nitromuscs et muscs polycycliques, Ingrédients éthoxylés (y compris PEGS ou polyéthylène glycol doivent respecter les seuils d'impureté pour le 1,4-Dioxane et l'oxyde d'éthylène), Silicones cycliques, EDTA et dérivés (autorisés si aucun substitut technique inférieur à 0.2%)
